1200°C二通道混气高真空CVD系统_CVD系统_其它高温炉_产品展示

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1200°C二通道混气高真空CVD系统

产品详情

型号：OTF-1200X-HVC

产品概述：OTF-1200X--HVC是由OTF-1200X-单温区管式炉，二路质子混气系统和高真空机组组成。其最高工作温度可达1200℃，极限真空度可达 10-5 torr。混气系统可以对两种气体进行精确的混气，然后导入到管式炉内部。

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技术参数实验案例警示/应用提示配件详情

设备名称

• 1200°C二通道混气高真空CVD系统-OTF-1200X--HVC （2019.12.9—科晶实验室审核）

产品提示

科晶实验室邀请提示 图片未及时更新提示 多种配件可选提示 危险设备操作提示

主要特点

• 高熔点物质能够在低温下合成

• 可生长单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种物质

• 不仅可以在基片上进行生长，还可以在粉体表面生长

基本参数

一、加热炉：

• 温度：1100℃（1200℃＜1h）

• 总加热度: 440mm

• 升温速率：≤10℃/min

• 恒温精度：±1℃

• 热偶：K型热偶

• 电源：AC208-240 50/60Hz

• 功率：最大2.5KW

二、供气系统：

产品	二通道	三通道	四通道	五通道
工作温度	5-45℃	5-45℃	5-45℃	5-45℃
最大压力	3*10^6 Pa	3*10^6 Pa	3*10^6 Pa	3*10^6 Pa
精度	±1.5% FS	±1.5% FS	±1.5% FS	±1.5% FS
重复精度	±0.2%FS	±0.2%FS	±0.2%FS	±0.2%FS
流量范围	一路：1~199 SCCM 二路：1~199 SCCM	一路：0~100 SCCM 二路：1~199 SCCM 三路：1~499 SCCM	一路：0~100 SCCM 二路：1~199 SCCM 三路：1~199 SCCM 四路：1~499 SCCM	一路：0~100 SCCM 二路：1~199 SCCM 三路：1~199 SCCM 四路：1~499 SCCM
注意	其他流量范围的可定制（0~100 、1~200 、1~500 、1~1000 、1~2000 、1~5000 SCCM），需额外费用			五-九路可按照客户要求定制

三、103G高真空机组：

产品	国产分子泵	爱德华分子泵
抽气速率	·N2 33 L/s ·He 39 L/s ·H2 32 L/s	·N2 42 L/s ·He 49 L/s ·H2 45 L/s
系统极限真空度	<1E-4 Pa (配和本公司管式炉使用可达到1E-2Pa)	<1E-6 Pa (配和本公司管式炉使用可达到1E-4Pa)
分子泵组成	RVP-4机械泵和F-100/110分子泵	隔膜泵和斡旋分子泵
使用电压和功率	电压：200~240V 输出功率：150W	电压：185-265V 输出功率：100W
移动壳体尺寸:	600(L)x600(W)x750(H)mm	600(L)x600(W)x750(H)mm