小型滑动PECVD管式炉系统—OTF-1200X-50S-PE-SL 

1、多种配件可选提示   2、特殊设备尺寸设备   3、科晶实验室邀请提示   4、配件妥善保管提示

▪ 射频电源可实现等离子增强从而显著降低实验温度；

▪ 可通过炉体滑动达到快速升温和降温；

▪ 可通过射频电源的频率来控制薄膜的应力；

▪ 可通过工艺调节来控制化学计量；

▪ 可沉积各种材料，如SiOx, SiNx, SiOxNy 和(a-Si:H) 等。

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▪ 最高温度：1100℃（<30min）；连续工作温度：1000℃；

▪ PID温度控制器及30段可编程温控系统，控温精度：±1℃；

▪ 输入电源：208- 240V AC，功率：1.2KW；

▪ 炉膛保温材料采用高纯氧化铝多晶纤维，并且内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层，可以提高加热效率，反射率及延长仪器的使用寿命（点击文字了解涂层的详细参数）。

▪ 科晶公司现有不同功率的射频电源可供选择，以满足不同实验条件的需求。

▪ 采用TRP-12的双旋真空泵；

▪ KF25卡箍及波纹管用于连接管式炉与真空泵；

▪ 真空度可达10-2Torr。

▪ 四通道质子流量计控制系统可实现气体流量的精确控制（精确度：±0.02%）；

▪ 流量范围:

▪ 电压：208-240V， AC， 50/60Hz；

▪ 气体进出口配件：6mm OD的聚四氟管或不锈钢管；

▪ 不锈钢针阀用于手动控制气体进出；

▪ PLC触摸屏可以简便地进行气体流量设置。

▪ 尺寸：1500mm L´600mm W´1200mm H

▪ 净重：160 kg

▪ 运输重量：220 kg 

▪ CE认证

▪ 所有电器元件通过 UL / MET / CSA认证

▪ 如您另外付费，我们可以保证单台仪器的TUV(UL61010)或CSA 认证

▪ 一年质保期，终身维护（不包括炉管、硅胶密封圈和加热元件）